指侧方静脉在指尖离断再植中的应用

董泽文   张小军   李彦生   高承志   高轩   李晓阳

摘要： 目的 研究骨膜下种植体在4种咬合力作用下的生物力学特征，为临床病例骨膜下种植体个性化设计提供基础。方法 在下颌骨三维实体模型的基础上，分别建立网状基底骨膜下种植体（种植体1）和带状基底骨膜下种植体（种植体2）。研究在4种荷载作用下两种种植体的应力分布。结果 种植体1在荷载Ⅳ作用下最大应力可达230.42 MPa，种植体2在荷载Ⅰ作用下最大应力可达311.11 MPa。网状基底种植体具有较好的抗垂直荷载能力，而带状基底种植体具有较好的抗斜向荷载能力。结论 在种植体设计时可以通过合理布置基台个数和间距来有效控制种植体上的应力，同时应使基台与下颌牙槽嵴垂直，以保证斜向荷载水平分力不被放大。此外，还应保证基底对基台有足够的约束，避免因约束不足导致基台底部应力过大。在义齿制作过程中，应保证全口义齿做正中、前伸、侧方咬合时必须多点接触，使咬合处于平衡状态，达到减小接触面拉应力的目的。